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Photoresist Process Simulation to Study Line Edge Roughness

Yufei Sha, Shuxin Yao,Miao Jiang, Hao Yang,Di Liang, Cuixiang Wang, Futian Wang, Enqiang Tian, Jiahao Xi,Yulong Jiang,Jiangliu Shi

OPTICAL AND EUV NANOLITHOGRAPHY XXXVII（2024）

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关键词
photoresist,process,exposure,simulation,LER,quencher,photoacid,PEB
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