订阅小程序

旧版功能

立即登录

学术主页个人账号

我的关注论文收藏浏览历史

Excellent Conformality of Atmospheric-Pressure Plasma-Enhanced Spatial Atomic Layer Deposition with Subsecond Plasma Exposure Times

Mike L. van de Poll,Hardik Jain,James N. Hilfiker,Mikko Utriainen,Paul Poodt,Wilhelmus M. M. Kessels,Bart Macco

APPLIED PHYSICS LETTERS（2023）

引用 3|浏览15

关键词

Atomic Layer Deposition

AI 理解论文

溯源树

样例

生成溯源树，研究论文发展脉络

Chat Paper

正在生成论文摘要