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Efficient Exposure of Non-Manhattan Layouts for Optical Applications Using Variable Shaped Beam Lithography
Eike Linn,Stefan Fasold,Ines Stolberg,Ulf Weidenmueller
JOURNAL OF MICRO-NANOPATTERNING MATERIALS AND METROLOGY-JM3no. 4 (2023)
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Efficient Exposure of Non-Manhattan Layouts Using Vistec’s Shaped Beam Systems
Eike Linn,Stefan Fasold, Reinhard Galler, Sebastian Kuefner,Ines Stolberg, Martin Suelzle,Ulf Weidenmueller
Novel Patterning Technologies 2023 (2023)
引用0浏览0引用
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#Papers: 50

#Citation: 719

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