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LCDU Decomposition and Scaling: Mask and Resist Effects on Local MEEF and Stochastics
Dominykas Gustas, Sam Borman,Dorothe Oorschot,Joost Bekaert, Hilbert Van Loo, Frank Horsten, Vidya Vaenkatesan,Alberto Colina,Tasja van Rhee
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2024 (2024)
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High NA EUV Stitching: Mask Performance is a Key
Natalia V. Davydova,Vincent Wiaux,Nick Pellens,Tatiana Kovalevich, Laura Huddleston,Frank Timmermans, Cyrus Tabery,Joost Bekaert,Lieve van Look,Alberto Colina,Bram Slachter, Nitesh Pandey,Stefan Hunsche,Ataklti Weldeslassie, Guillaume Libeert
Photomask Japan 2024 XXX Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology (2024)
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Unfolding the Curves: Novel Designs and Metrology Methods for Curvilinear Masks Qualification
Darko Trivkovic, Xuelong Shi, Yi-Pei Tsai, Chieh-Miao Chang, Jiahui Wang, Victoria Malacara,Balakumar Baskaran,,Youssef Drissi,Joost Bekaert,Kenichi Miyaguchi
Photomask Technology 2024 (2024)
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